在學校985計劃和211計劃的持續支持下,研究團隊建成了120平方米的潔凈實驗室(2008年底將遷入1600平方米的新建大型潔凈實驗室),並購置了以下與微納制造和光電制造研究相關的主要設備(總投資44萬平方米)
■電子束直接寫入掩模對準器(Crestec公司)
■雙面準接近曝光機(美國ABM)
■旋轉塗布機(美國APTO)
■恒溫顯影臺(臺灣省)
■ 1原子力顯微鏡(美國制造)
■ SEM掃描電子顯微鏡(日本精工)
■接觸式探針臺階儀(美國Ambios)
■白光幹涉顯微輪廓測量儀(美國Plasmastar)
■等離子蝕刻(PE)除膠劑(美國Plasmastar)
■ ICP蝕刻機(中國制造)
■博世工藝幹蝕刻機(英國牛津)
■多通道磁控濺射臺(美國Dolgo)
■管式爐(碳納米管生長)
■矽片包裝機
■真空熱封機
■小型CMP拋光機
■光譜薄膜厚度檢測器(美國制造)
■用於測量薄膜特性的橢偏儀(Keyence,日本)
■ 3000倍光學顯微鏡(帶CCD成像系統)1臺(日本制造)
■多功能高分子材料理化性能測試儀(國產)
■ 10mx5m隔振工作臺和光學工作站
■硬度測量儀(英國制造)
■高性能電能表和IV/CV測量系統(表征設備的電子特性和材料的介電特性)
■界面接觸角和表面張力分析儀
■比表面積和孔隙率分析儀
■飛秒激光直寫加工系統(德國制造)