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如何用高級氧化技術處理印染廢水

1濕式氧化法

濕式氧化是利用氧氣或空氣作為氧化劑,在高溫(125-320℃)、高壓(0.5-10MPa)下,氧化水中溶解或懸浮的有機物或還原的無機物,生成CO2和H2O的處理方法。壹般來說,濕式氧化反應是自由基反應,分為鏈引發、鏈發展或轉移和鏈終止三個階段。在鏈的引發階段,烴基(R)主要由分子氧與反應物分子相互作用生成;在鏈的發展或轉移階段,自由基與反應物分子相互作用產生酯基(ROO)、羥基(Ho)和烴基(R),羥基具有強氧化性,進而氧化有機廢物。在鏈的終止階段,自由基相互碰撞形成穩定的分子,從而中斷鏈增長過程,停止反應。

2超聲波氧化法

壹般認為,用頻率為15 kHz ~ 1 MHz的超聲波輻照降解水中的化學汙染物,是由超聲波空化效應引起的物理化學過程。超聲空化的熱點理論模型認為,當溶液受到壹定頻率和壓力的超聲波照射時,在聲波負壓相的作用下,溶液中產生空化氣泡,然後空化氣泡在聲波正壓相的作用下迅速潰滅。整個過程發生在ns-μs,氣泡的快速潰滅伴隨著氣泡內汽相的絕熱壓縮,產生瞬間高溫高壓,形成所謂的“熱點”。進入空化氣泡的水蒸氣在高溫高壓下發生分裂和鏈式反應,產生OH、HOO、H、H2O2、H2等自由基。聲化學反應的方式主要有高溫高壓熱解和自由基氧化。

光催化氧化法

光催化氧化(多相)是用N型半導體(如二氧化鈦、硫化鋅、WO3、二氧化錫等)進行氧化的過程。)作為催化劑。當催化劑受到紫外光照射時,表面的價帶電子(e-)會被激發到導帶,價帶中會產生空穴(h+),形成電子-空穴對(h+-e-)。這些電子和空穴遷移到顆粒表面後,由於空穴的強氧化能力,水在半導體表面形成具有強氧化能力的羥基自由基(OH),羥基自由基與水中的有機汙染物反應,最終生成CO2、H2O、無機鹽等物質。

4超臨界水氧化法

超臨界水是指水在其臨界點(374℃,22.1 MPa)以上的高溫高壓狀態。超臨界水氧化反應是基於自由基反應的機理。在超臨界狀態下,水成為非極性有機物的良好溶劑,使得有機物的氧化反應可以在富氧均相中進行。氧攻擊最弱的C-H生成有機自由基,有機自由基進壹步反應生成過氧自由基(HO2)。進壹步反應生成的過氧化物非常不穩定,然後進壹步分解生成簡單無害的小分子化合物,如CO2和H2O。同時,較高的溫度也加快了反應速度,甚至大部分有機物的破壞都可以在幾秒鐘內完成。

5電化學氧化法

電化學氧化的機理主要是在電極材料的作用下產生超氧自由基(O2)、H2O2、羥基自由基(OH)等活性基團來氧化水中的有機物。該方法只發生在水中,不需要額外的催化劑,避免了二次汙染。由於其可控性強、非選擇性、條件溫和、氣浮、混凝、殺菌,且廢水中的金屬離子能使正負電極同時作用,對難生物降解的有機物有很好的處理效果。

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