1. 機械拋光：傳統的拋光方式，使用粗糙度逐漸降低的研磨紙或研磨布進行機械打磨，來達到拋光目的。
2. 化學機械拋光：使用以氧化鋁為主要成分的拋光液，在機械打磨的同時進行化學反應，來達到更好的拋光效果。
3. 電化學拋光：通過外加電壓、電流等參數來控制拋光過程中產生的氧化還原反應，從而實現氨基膜的拋光。
4. 激光拋光：使用高能量的激光對氨基膜進行掃描和加工，來實現拋光。
各種拋光方式的適用情況視材料性質、拋光要求、拋光設備、成本等因素而定。