應時坩堝可在1650度以下使用，分為透明和不透明兩種。電弧法制造的半透明應時坩堝是拉制大直徑單晶矽和發展大規模集成電路必不可少的基礎材料。如今，世界半導體工業發達國家已經用這種坩堝代替了小型透明應時坩堝。具有純度高、耐溫性強、尺寸大、精度高、保溫性好、節能、質量穩定等優點。2、不能與HF、高溫接觸，極易與苛性堿和堿金屬碳酸鹽反應。3.應時坩堝適用於以K2S2O7和KHSO4為熔劑熔化樣品，以Na2S207(先在212℃幹燥)為熔劑處理樣品。4.應時易碎，所以使用時要小心。5.除了Hf，普通的稀無機酸也可以用作清洗液。
陶瓷坩堝:
1.可以在1200度左右使用。2.適用於熔融K2S2O7等酸性物質的樣品。3.壹般不能用NaOH、Na2O2、Na2CO3等堿性物質作熔劑熔化，以免腐蝕瓷坩堝。瓷坩堝不能與氫氟酸接觸。4.壹般陶瓷坩堝可以用稀鹽酸煮沸清洗。
剛玉坩堝:
1.剛玉坩堝由多孔電熔氧化鋁組成，堅硬耐熔。2.剛玉坩堝適用於用無水Na2C03等弱堿性物質熔樣，不適用於用Na 202、NaOH等強堿性物質和酸性物質(如K2S 207)熔樣。
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