在首次引入光刻模型三十年後，光學光刻模擬已經
從壹個好奇心，到壹個研發工具，最後到壹個制造
工具。盡管已經發表了許多關於光刻模擬器及其
在先進的光刻技術開發中，很少公開模擬器是如何使用的
從壹個好奇心到壹個研發工具，最後到壹個制造業。
使用工具工作。許多已經發表的新發展的光刻模擬器和他們的
在平版印刷的發展之前，已經出版了相對少量的關於如何使用模擬器的文章
很快將用於半導體制造流程。這篇綜述文章將描述
當今制造業中最流行和最有用的光刻模擬器示例
環境。
不久，它被用於半導體制造過程中。這篇綜述文章將描述
當今最流行和最有用的例子是用於制造業的光刻模擬器。
環境
關鍵詞:光刻模擬，PROLITH，半導體制造
牛鼻子:平版印刷模擬，PROLITH，半導體制造
1.介紹
自從光刻建模首次引入半導體以來的30年中
工業，它已經從壹個研究的好奇心變成壹個不可缺少的工具為研究，發展和
制造業。有無數的例子表明建模對進化有著巨大的影響
1.
在光刻模型首次引入半導體的三十年後
工業，已經從壹個研究的好奇心變成壹個不可或缺的研究，發展和
制造業。模型如何對進化產生巨大影響的例子有很多。
平版印刷技術的發展，以及更多它微妙但不可否認地影響日常生活的方式
光刻專業人員的套路。光刻模擬有四個主要用途:作為研究
工具，進行用其他方法很難或不可能完成的實驗，2)作為壹種發展
工具，快速評估選項，優化流程，或通過減少
平版印刷技術及其更敏銳的方法，但不可否認，每天都在影響著人們。
平版印刷專業人員的日常工作。光刻模擬主要有四個用途:1)比如研究。
工具，它將很難或不可能以任何其他方式進行實驗，2)如開發。
使用工具，快速評估選項，優化程序，或通過減少數量來節省時間和資金。
在fab中的實驗，3)作為制造工具，用於解決工藝問題和確定
最佳工藝設置，以及4)作為學習工具，幫助提供對所有
光刻工藝的各個方面。光刻模擬的這四種應用並不明顯
這些基本類別之間有很多重疊。
在優秀的實驗中，3)作為制造工具，修復程序問題並作出決定。
最合適的編程，以及4)作為學習工具來幫助提供所有的基本理解。
平版印刷的方方面面。光刻模擬的這四個應用還不清楚。
這些基本類別之間有許多重疊之處。