勞厄法是用光源發出連續的X射線照射放置在樣品臺上的靜止單晶樣品，用平板底片記錄產生的衍射線。根據底片位置的不同，勞厄法可分為透射勞厄法和背反射勞厄法。背反射勞厄法不受樣品厚度和吸收的限制，是壹種常用的方法。勞厄法的衍射圖樣由若幹個勞厄斑組成，每個勞厄斑對應晶體表面的1 ~ N級反射，每個勞厄斑的分布構成壹條晶帶曲線。
旋轉晶體法
轉晶法用單色X射線照射旋轉的單晶樣品，將產生的衍射線記錄在以樣品旋轉軸為軸的圓柱形底片上，從而在底片上形成離散的衍射斑。這種衍射圖樣易於準確確定晶體的衍射方向和強度，適用於未知晶體的結構分析。旋轉晶體法易於分析對稱性低的晶體(如正交、單斜、三斜晶體)的結構，但應用較少。
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