在某些應用中，需要對內腔表面進行大縱橫比的鍍膜，在極端情況下縱橫比會達到15甚至20，這是傳統鍍膜方法無法實現的。而原子層沈積技術在這方面具有獨特的優勢，因為它在基底表面形成吸附層，然後通過反應生成薄膜，可以在大縱橫比的內腔表面形成厚度均勻的薄膜。
工作原理圖近年來，對X射線光譜中光學薄膜的需求和研究也越來越多。由於材料的光學常數和性質在X射線區隨波長變化顯著，同時，在X射線多層膜的制備中，基底的表面粗糙度很高，膜層很薄，很難控制。這些問題仍然是光學薄膜研究中的難點。由於ALD技術是基於反應前驅體在表面的化學吸附，反應形成薄膜，其主要特點是適合沈積薄膜質量好的薄膜，在X射線光學薄膜器件的制備中具有絕對優勢。
光子晶體是20世紀80年代末提出的新概念和新材料。由於它的光子帶隙和光子局域化，具有廣闊的應用前景。由於光子晶體是壹種人工微結構，自然界中只有少數幾種，因此光子晶體的制作技術壹直是研究熱點。原子層沈積技術可以精確控制膜層，獲得的高度均勻的表面對光子帶隙特性影響很大，為獲得高性能光子晶體結構提供了靈活有效的途徑。